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拓扑半金属能应用在芯片领域,被誉为最有可能成为下一代芯片原材料,一直被学术圈鼓吹。
身为拓扑半金属领域的专家,从了解这一领域到现在从事该领域的研究工作,赖佳晨数了数大致有十个年头,这十年里,他没少听到类似言论。
但梦想很美好,现实很残酷,研究人员一直到今年才搞出拓扑半金属的薄膜,从实验室到工业化,不知道还要多少年。
因此在他看来,这玩意应用在芯片领域,多少和可控核聚变一样,二十年前说还要五十年,二十年后还是说需要五十年。
中间不知道有多少坑等着人们去踩呢。
而现在他看到的事实是,拓扑半金属应用在芯片领域最大的问题解决了,光敏感性和稳定性之间的矛盾,这个问题解决意味着原本它的进度是不可预测的,你没办法估算要多久能做出来。
而现在制定计划表都行,按照计划表都能把它给整出来。
赖佳晨从对方口里得到了他想要的答案后,内心感慨道:人和人果然是不一样的,对于外界来说难以解决的问题,对天才来说不过是随手可得。
常温超导发现后,陈元光接受完央妈专访后就神隐了,之前虽说抛头露面也不多,但是多少还是会参加一些活动。
而这次包括光甲科技的人体冬眠中心开幕,常温超导体对外开放,光甲航天新型可回收火箭发射,华国复眼竣工验收等等一系列的重要节点,陈元光一次都没出席。
外网说陈元光被软禁起来了,国内则是结合约瑟夫被刺杀,说他被保护起来。
赖佳晨作为申海交大教授,有自己的消息来源,他知道陈元光这段时间一直待在华国西部,只是不知道是蜀都还是哪。
这次在看到拓扑半金属之后,他的第一反应就是,这玩意除了陈元光之外没人能搞出来,他问过之后,对方一直闭口不谈。
现在猜想证实后,赖佳晨连酸的心态都没有,大家不是一个世界的人,压根酸不起来。
他联想起自己前不久看到的一篇BBC报道,里面把陈元光誉为华国和阿美利肯两级之间的最大X因素。
他当时觉得这个说法夸张了,现在觉得这说法还是有点保守了。
“所以说,拓扑半金属当作原材料能让芯片有更强的算力?”
在和赵普见完后,林甲问,她还是不太懂。
陈元光解释道:“原本我们把芯片的面积固定,比如说是一平方厘米,然后我们要在这一平方厘米的面积上放尽可能多的晶体管,7nm是指晶体管的大小是7nm,而不是指芯片的大小。
晶体管越小,同等面积下芯片的晶体管数量也就越多,芯片算力和晶体管数量挂钩。
而现在我们用新材料作为芯片的原材料,我们不用拘泥于一平方厘米,我们可以在4平方厘米,甚至16平方厘米的面积上去放晶体管,我们虽说单个晶体管的体积更大,但是我们能放晶体管的面积也更大了。
也就是说我们用28制程制作出来的芯片,晶体管数量和5nm制程制作出来的芯片数据一样,因为我们的基底更大了。
原本华国的思路是去追赶国外的技术,别人在3nm,我们现在连28nm都还没搞定,差距非常大,但是因为3nm可以说是工艺极限了。
因为硅基材料的晶格结构和物理特性限制了芯片制程的进一步缩小,硅基材料在3nm几乎已经达到了极限,现在3nm都难以保证良品率。
在这个制程上,三星已经掉队,唯一还能维持良品率的是台积电。
如果继续沿着光刻机去追赶,需要整个上下游供应商的共同进步,这太难了。
而我们直接上新材料,可以在现有技术上,实现同等的算力。
甚至用国内ASML的7nm光刻机改造,用拓扑半金属制造硅片的话,芯片的算力能比3nm表现更好,无限逼近1nm。
();() 这就意味着他们的策略彻底失败,我们的芯片算力比他们还更先进,那是谁卡谁脖子呢?
而你把3nm工艺给我们用,我们一起突破现在的桎梏,把芯片给它拉满,或者大家一起卡在1nm。
这是一件合则两利的事情。”
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